Phase-shift mask
- Phase-shift mask
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Masque à décalage de phase
À gauche : la
partie réelle d'une
onde plane se
propageant vers le bas. À droite : l'effet de l'ajout d'un masque transparent déphasant l'onde de 180 degrés. (L'illustration de droite ne prend pas en compte l'effet de la
diffraction).
En lithographie, un masque à décalage de phase ou PSM (Phase Shift Mask en anglais) est un masque photographique qui module en phase la lumière incidente de façon à réaliser une interférence, ce qui lui permet d'offrir une meilleure résolution qu'un masque binaire. Il existe des masque à décalage de phase atténués (attenuated PSM), alternés (alternating PSM) et sans chrome (chromeless PSM).
Voir aussi
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2010.
Contenu soumis à la licence CC-BY-SA. Source : Article Phase-shift mask de Wikipédia en français (auteurs)
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