- Nitrure d'indium
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Nitrure d'indium Général Nom IUPAC Nitrure d'indium No CAS No EINECS SMILES InChI Propriétés chimiques Formule brute InN [Isomères] Masse molaire[1] 128,825 ± 0,003 g·mol-1
In 89,13 %, N 10,87 %,Unités du SI & CNTP, sauf indication contraire. Le nitrure d'indium (InN) est semiconducteur de la famille III-V, tout comme le nitrure d'aluminium (AlN) et le nitrure de gallium (GaN). Les semiconducteurs III-V connaissent un intérêt grandissant dans le monde scientifique pour plusieurs raisons
- ils sont robustes,
- possèdent une conductivité thermique élevée
- leur point de fusion est élevé
- ils ont une bande interdite (couramment appelée gap) directe
Ces matériaux sont principalement utilisés dans les cellules photovoltaïques et dans les dispositifs optoélectroniques tels que les diodes électroluminescentes (DEL en français ou LED en anglais pour Light Emitting Diode). L'AlN, le GaN et InN possèdent respectivement des énergies de bandes interdites de 6,2 eV[2], 3,4 eV[3] et ~0,7 eV[4].
Cependant, comme nous allons le voir, le nitrure d'indium reste marginalisé.
Sommaire
Un matériau III-V étrange
Un matériau marginalisé
Alors que l'AlN et le GaN sont des matériaux maintenant bien connus, ce n'est pas le cas de l'InN alors qu'il fait partie de la même famille III-V. On estime les connaissances au sujet de l'InN équivalentes à celles du GaN il y a dix ans ! Il faut savoir qu'actuellement l'InN est créé par épitaxie par jets moléculaires. Or on rencontre de nombreuses difficultés de croissance[5],[6],[7],[8],[9],[10] :
- le manque de substrats possédant un faible désaccord de maille
- une basse température de dissociation de l'InN
- une haute pression de vapeur d'azote en présence d'InN
Un matériau III-N anormalement conducteur
Les études sur l'InN ont révélé une conductivité anormalement élevée[11]. Deux hypothèses ont été émises pour expliquer cette conductivité : une oxydation ou un phénomène de courbures de bandes. Chaque hypothèse ayant pour conséquence une accumulation d'électrons en surface. Pour le moment, la piste de la courbure de bande est de loin la plus probable. En 2001, W. Waluckiewicz[12] a introduit un modèle faisant appel à l'énergie de stabilisation de Fermi qui relie les défauts de surface au phénomène d'ancrage (pinning) du niveau d'énergie de Fermi à la surface des semiconducteurs.
Propriétés essentielles de l'InN
Propriétés cristallographiques
Polarités des faces
Origine de la polarisation
N-face et In-face
Propriétés optiques
Structure de bandes
Après plusieurs années de controverse, la structure de bande du nitrure d'indium est maintenant bien établie. En particulier, l'obtention par épitaxie à jet moléculaire de cristaux de grande pureté à permis la mesure avec une grande précision des paramètres de bandes au voisinage du gap fondamental: InN est un semiconducteur à gap direct, Eg=0.67 eV à 300 K pour un dopage résiduel aux alentours de 10^17. La masse effective a été mesurée grâce à l'étude des oscillations quantiques de Shubnikov-de Haas et l'observation d'oscillations de la magnetoabsorption et vaut 0.055 m_0 [13],[14]. La bande de conduction est par ailleurs fortement non-parabolique.
Variation de l'énergie de bande interdite avec la température
Nanocolonnes d'InN
Applications technologiques
En combinant du Ga, In et Indium, on peut obtenir une bande interdite variant de 0.7 à 3,4 eV. Cette gamme d'énergie couvre le spectre visible. De plus l'énergie de bande interdite est directe. Ce matériau est donc idéal pour l'élaboration de cellules photovoltaïques. Pour ces mêmes raisons, on utilise aussi l'indium dans le composé ternaire InGaN pour la réalisation de diodes électroluminescentes.
Notes et références
- Atomic weights of the elements 2007 sur www.chem.qmul.ac.uk. Masse molaire calculée d’après
- [But05] : K.S.A. Butcher et T.L. Tansley, Superlattices and Microstructures 38, 1 (2005)
- [But05]
- mémoire de physique sur la haute conductivité de l'InN [Lan07] : Languy Fabian
- [Lan07]
- J. Grandal et M.A. Sánchez-García, Journal of Crystal Growth 278, 373 (2005)
- T. Yodo, H. Yona,H. Ando, D. Nosei et Y. Harada, Appl. Phys. Lett. 80, 968 (2002)
- M. Higashiwaki et T. Matsui, Journal of Crystal Growth 251, 494 (2003)
- I-h. Ho et G.B. Stringfellow, Appl.Phys.Lett. 69, 2701 (1996)
- S.X. Li, K.M. Yu, J. Wu, R.E. Jones, W. Walukiewicz, J.W. Ager III, W. Shan, E.E. Haller, Hai Lu,William J. Schaff, Physica B 376, 432 (2006)
- M. Higashiwaki et T. Matsui, Journal of Crystal Growth 252, 128 (2003)
- W. Walukiewicz, Physica B 302-303, 123 (2001)
- Electron cyclotron effective mass in indium nitride, M. Goiran, M. Millot, J.-M. Poumirol, et al., Appl. Phys. Lett. 96, 052117 (2010); doi:10.1063/1.3304169
- Determination of effective mass in InN by high-field oscillatory magnetoabsorption spectroscopy. Marius Millot, Nicolas Ubrig, Jean-Marie Poumirol, Iulian Gherasoiu, Wladek Walukiewicz, Sylvie George, Oliver Portugall, Jean Léotin Michel Goiran and Jean-Marc Broto doi:10.1103/PhysRevB.83.125204
Voir aussi
Articles connexes
Liens et documents externes
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