Gravure au plasma
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La gravure au plasma est une technique de gravure sèche utilisée en micro fabrication (micro-électronique). Elle consiste à faire subir à un échantillon (wafer) un bombardement de gaz ionisé (plasma) afin d'en retirer une ou plusieurs couches de matériaux. Cette méthode de gravure est purement physique (par opposition aux gravures chimiques), au sens où il n'y a pas de réaction chimique entre le plasma et l'échantillon, mais que cette gravure résulte uniquement du bombardement de l'échantillon par les ions du plasma.
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