Dépôt physique par phase vapeur
- Dépôt physique par phase vapeur
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Le dépôt physique en phase vapeur (ou PVD pour l'anglais physical vapor deposition) est une méthode de dépôt sous vide de films minces.
Une autre méthode de dépôt sous vide de films minces est le dépôt chimique en phase vapeur (ou CVD pour l'anglais chemical vapor deposition).
Les principales méthodes de PVD sont la pulvérisation cathodique (sputtering) et l'évaporation.
Le projet européen Hardecoat utilise cette technique de PVD pour faire des couches minces.
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2010.
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